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Atonarp 適用于半導體過程控制在線質譜儀 Aston?
上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston?, 通過使用分子傳感技術, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測分析, 實現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷, 為半導體過程控制提供解決方案, 提高半導體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率, 在現(xiàn)有生產(chǎn)工藝工具上加裝 Aston, 可在短時間內實現(xiàn)晶圓更高產(chǎn)量!
Aston? 特性
實時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導體制造的分子分析原位平臺, 提供實時, 可操作的數(shù)據(jù)
采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產(chǎn)工具完全集成
Aston? 作為一個強大的平臺, 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供前所未有的控制水平, 包括光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
Atonarp Aston? 技術參數(shù)
類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
型號 | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
質量分離 | 四級桿 | |||||
真空系統(tǒng) | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 |
檢測器 | FC /SEM | |||||
質量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
檢測限 | 0.1 PPM | |||||
工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
功率 | 350 W | |||||
重量 | 15 kg | |||||
尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) | ||||
Atonarp Aston? 應用: 半導體工藝過程控制和優(yōu)化的重大發(fā)展, 提高半導體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率
Aston? 是一款全新設計堅固耐用的緊湊型在線質譜儀, 適用于半導體制造和工業(yè)過程控制應用中氣體監(jiān)測和控制, 高定量精度和實時性與生產(chǎn)穩(wěn)健性和可靠性相結合, 例如半導體 dry pump 尾氣偵測分析, 實現(xiàn)在線監(jiān)控,診斷.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物過渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:識別跟蹤分子
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