2012年6月8日，《采用高質量分辨率輝光放電質譜法測量太陽能級硅中痕量元素的測試方法》行業標準啟動會在無錫市產品質量監督檢驗中心六樓視頻會議室召開。來自中國電子技術標準化研究院、北京有色金屬研究總院、江蘇中能硅業科技發展有限公司、中科院上海硅酸鹽研究所、中科院福建物構所、國家硅材料深加工產品質檢中心、江西賽維LDK、埃文思分析集團、國家太陽能光伏質檢中心（CPVT）等單位的專家和領導出席了會議。

　　該標準由全國半導體設備和材料標準化技術委員會歸口管理，由國家太陽能光伏產品質量監督檢驗中心（CPVT）負責起草。標準參考SEMI PV1-0309標準并充分結合了我國采用高分辨率輝光放電質譜法測量太陽能級硅中痕量元素的實際情況，于2012年5月完成了標準的草案。

　　本次會議由全國半導體設備和材料標準化技術委員會馮亞斌專員主持，國家光伏質檢中心（CPVT）何莉、姚鳳花、周瀅等作為該標準的主要起草人對標準的制訂情況作了相關的說明與介紹。與會專家對標準草案進行了充分討論，對草案的個別條款提出了修改意見，并最終達成共識。在各位專家的共同努力下，形成了該標準的討論稿。

　　據有關專家介紹，該項標準的制訂，將為太陽能級硅中痕量元素的測試建立一個準確、便捷、高效的方法，填補行業空白。